ITO,即氧化銦錫(IndiumTinOxide),是一種N型半導(dǎo)體材料,由90%in2o3和10%sno2混合而成,具有高導(dǎo)電率、高透光率、高機(jī)械硬度和良好的化學(xué)穩(wěn)定性。主要通過磁控濺射(物理氣相沉積,PVD)真空鍍膜的工藝制備薄膜。
磁控濺射原理:電子高速運(yùn)行過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊ITO靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的ITO靶原子沉積在基片上成膜。
ITO導(dǎo)電膜是智能調(diào)光、電致變色、觸控顯示、電磁屏蔽、光伏電池等領(lǐng)域透明電極最常用的薄膜材料。
注:可以通過鍍膜組合,實(shí)現(xiàn)基材的顏色調(diào)節(jié),也可以實(shí)現(xiàn)對(duì)紅外線的反射功能。
加反射鍍層的調(diào)光膜遮陽系數(shù)0.12-0.6之間調(diào)節(jié),傳熱系數(shù)降低0.4。
ITO,即氧化銦錫(IndiumTinOxide),是一種N型半導(dǎo)體材料,由90%in2o3和10%sno2混合而成,具有高導(dǎo)電率、高透光率、高機(jī)械硬度和良好的化學(xué)穩(wěn)定性。主要通過磁控濺射(物理氣相沉積,PVD)真空鍍膜的工藝制備薄膜。
磁控濺射原理:電子高速運(yùn)行過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊ITO靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的ITO靶原子沉積在基片上成膜。
ITO導(dǎo)電膜是智能調(diào)光、電致變色、觸控顯示、電磁屏蔽、光伏電池等領(lǐng)域透明電極最常用的薄膜材料。
注:可以通過鍍膜組合,實(shí)現(xiàn)基材的顏色調(diào)節(jié),也可以實(shí)現(xiàn)對(duì)紅外線的反射功能。
加反射鍍層的調(diào)光膜遮陽系數(shù)0.12-0.6之間調(diào)節(jié),傳熱系數(shù)降低0.4。
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